Fotografía por Gabiele Photography

Sputtering

Esta es una técnica muy popular en películas delgadas. Se unsa sobre
todo en aplicaciones ópticas y electrónicas. El sustrato y el material a
depositarse sobre él, se colocan en una cámara de vacío, uno frente al
otr. Un gas interte se introduce e ioniza, para después colisionar con
el material, también llamado blanco. Los iones del gas inerte erosionan
al blanco, y el material que se desprende viaja hasta el sustrato
formando una capa delgada. Durante este proceso se crea un plasma.
Nuestro laboratorio ha desarrollado una técnica novedosa para monitorear
el el envenenamiento del blanco y estudiar la composición
estequiometrica de la película, al hacer espectroscopía de emisión de la
luz del plasma.

Hay variaciones al proceso antes descrito. El uso de dos o más blancos,
con diferentes materiales; La introducción de gases reactivos a la
campana, usualmente nigrógeno y oxígeno.; Mantener el flujo de gas
reactivo constante durante el depósito o variándolo para producir
cambios contínuos en las propiedades físicas de la película.

La aplicación más común en nuestro laboratorio es hacia filtros
interferenciales ópticos. Para este fin se recubre una multicapa sobre
el sustrato, de tal manera que modifica su desempeño óptico: Mejora o
minimiza la reflectancia, selecciona la transmisión en un ancho de banda
delgado; Minimiza la emisión de calor, etc.

El uso de la tecnología de erosión catódica con magnetrón asegura la
uniformidad y calidad de las películas delgadas. Usando este método es
posible trabajar con materiales con puntos de fusión muy altos. Las
capas depositadas tienen composición muy cercana a las del material en
bulto.